工欲善其事，必先利其器!在芯片領域也是如此，想要制造出芯片，必然要使用到芯片制造工具—光刻機!在光刻機領域，荷蘭ASML則是光刻機領域金字塔最頂端的企業(yè)，ASML光刻機全球市場占比高達80%左右，而在高端EUV(極紫外光)領域，ASML則達到了相對壟斷的地位。為此，光刻機的售價一直居高不下，據(jù)ASML近期公布的財報顯示，第三季度共交付10臺EUV光刻機，凈銷售額40億歐元。
不難發(fā)現(xiàn)，每臺EUV光刻機的造價高達78億人民幣左右，而想要造出來高端光刻機，投資力度可想而知，“造不如買，買不如租”便成了那個年代國產(chǎn)企業(yè)的宗旨，為此，國產(chǎn)光刻機的研發(fā)也被這樣擱置了，隨著全球IT產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展，中國IT產(chǎn)業(yè)多方面的實力對美國科技霸主形成了反超，于是美國開始利用“芯片專利”大棒打破國產(chǎn)芯片企業(yè)供應鏈，日前余承東表示，華為海思麒麟9000或?qū)⒊蔀轺梓氲慕^版，隨后中芯也遭“斷糧”!
短期來看，雖然芯片自給壓力有所增加，但長期來看，美國對國產(chǎn)芯片的圍堵，卻進一步加強了國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈的國產(chǎn)化決心!前期，國內(nèi)下達“鐵令”，要求國產(chǎn)芯片自給率在2025年提升到70%，國產(chǎn)芯片企業(yè)也迎來了免稅優(yōu)惠條件。《資本論》中曾提及“當利潤達到50%，就會有人鋌而走險”，2025年國產(chǎn)芯片70%的自給率，不僅吸引了大量國產(chǎn)芯片企業(yè)上市，更吸引了大量海外技術。
眾所周知，日本的經(jīng)濟非常依賴中國，20%左右的貨物都出口給了中國。日本非常關注中國市場經(jīng)濟發(fā)展的動向。近日，日本經(jīng)濟網(wǎng)站傳來消息，報道稱“業(yè)內(nèi)人士透漏，為推進極紫外EUV光刻機設備的研發(fā)，中國企業(yè)已經(jīng)打算提供資金，聯(lián)科國際光刻機巨頭尼康、佳能共同推進光刻機的研發(fā)!”在EUV光刻機領域，雖然ASML處于相對壟斷的地位，但日本的尼康和佳能也有EUV光刻機制造的能力。
熟悉光刻機歷史的朋友也許知道，在1984年到2000年左右，全球光刻機市場幾乎被被尼康所壟斷，ASML光刻機在全球的市場份額連10%都不到，但作為日本的大企業(yè)，卻犯了一個“毛病”，當時時任臺積電研發(fā)副總的林本堅推出了浸潤式光刻機，不僅產(chǎn)能有所提升，成本也更低，但尼康由于在干式光刻機進行了大量投資，并不愿意轉(zhuǎn)型，更采取各種方式打壓新型光刻技術，最終導致ASML成為光刻機領域的領頭企業(yè)，而尼康最終陷入門可羅雀局面!
而如今，日本媒體表示，尼康和佳能也決定對當前的半導體制造工藝進行升級換代，加強每塊芯片增加元器件數(shù)的“立體化”技術研究，從而規(guī)避ASML的EUV光刻機，發(fā)展極紫外光線以外的光刻設備。此外，兩者也表示，希望能與中企合作，突破“立體化”芯片制造技術，重新奪回被ASML蠶食的光刻機市場，而核心產(chǎn)業(yè)鏈受限的華為，也將迎來轉(zhuǎn)機!
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